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高密度鐵電隨機存取存儲器FRAM批量生產技術的發(fā)展

來源: 日期:2021-03-24 10:33:09

從1990年代開始流行的智能卡和移動設備就需要很長時間來存儲數(shù)據(jù),即使關閉電源(非易失性),也可以存儲數(shù)據(jù),在低功率下高速運行,并具有較高的寫擦除周期耐力。鐵電隨機存取存儲器(FRAM)滿足了這些要求,但是在日本和美國嘗試使用常規(guī)半導體工藝制造該存儲器的嘗試直到2000年代初都未必成功。
 
在常規(guī)半導體工藝期間產生的氫氣,該反應導致鐵電性能下降。富士通團隊開發(fā)了H2阻擋膜來防止氧化鐵電材料的還原。這有助于在1999年成功地開始FRAM的批量生產。為了實現(xiàn)高密度和低壓可操作FRAM,他們改進了鐵電電容器,實現(xiàn)了1.8V工作電壓和4 Mb FRAM。與傳統(tǒng)的FLASH存儲器相比,他們開發(fā)的FRAM具有出色的電子性能。它的寫入/擦除速度提高了1000萬倍,耐用性提高了1億倍,功耗降低了400倍。
 
因此FRAM不僅用于智能卡和移動設備中,而且還用于配備有大容量內存,身份驗證設備和備用電池的射頻識別(RFID)標簽中,以用于備用電池的靜態(tài)RAM(SRAM)。由于已證明FRAM被證明比FLASH存儲器具有更高的抗輻射能力,因此FRAM有望應用于附著在需要通過放射線滅菌的醫(yī)療設備上的RFID標簽。
 
盡管FRAM已經成為用于安全社交網絡的基本內存支持信息技術(IT),但FRAM的最重要挑戰(zhàn)之一是“擴展”或減小單元區(qū)域。該團隊已經開發(fā)出了下一代FRAM,其單元面積比當前商業(yè)化的FRAM小得多。這項技術將大大降低FRAM的制造成本,并顯著提高FRAM市場的增長。
 
盡管FRAM已經成為用于安全社交網絡的基本內存支持信息技術(IT),但FRAM的最重要挑戰(zhàn)之一是“擴展”或減小單元區(qū)域。該團隊已經開發(fā)出了下一代FRAM,其單元面積比當前商業(yè)化的FRAM小得多。這項技術將大大降低FRAM的制造成本,并顯著提高FRAM市場的增長。
 
盡管FRAM已經成為用于安全社交網絡的基本內存支持信息技術(IT),但FRAM的最重要挑戰(zhàn)之一是“擴展”或減小單元區(qū)域。該團隊已經開發(fā)出了下一代FRAM,其單元面積比當前商業(yè)化的FRAM小得多。這項技術將大大降低FRAM的制造成本,并顯著提高FRAM市場的增長。

關鍵詞:FRAM
 

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