韓國三星電子于25已經(jīng)成功出貨100萬個極紫外光刻技術(shù)（EUV）生產(chǎn)的業(yè)界首款10納米級DDR4 DRAM模組，將為高端PC和移動設(shè)備及企業(yè)服務(wù)器和資料中心應(yīng)用等提供更先進(jìn)EUV制程技術(shù)產(chǎn)品。

 
三星電子DRAM芯片產(chǎn)品與技術(shù)執(zhí)行副總裁指出，隨著以EUV技術(shù)所生產(chǎn)出的新型DRAM芯片量產(chǎn)，展示著三星對提供革命性的DRAM芯片解決方案以支援全球IT客戶需求的承諾。這項重大進(jìn)展也說明了三星將如何透過即時開發(fā)高端制程技術(shù)來生產(chǎn)高端存儲器芯片市場的下一代產(chǎn)品，繼續(xù)為全球IT行業(yè)創(chuàng)新貢獻(xiàn)心力。

 
目前三星的EUV技術(shù)將從其第4代10納米級的DRAM生產(chǎn)中開始全面部署。而三星也預(yù)計從2021年開始量產(chǎn)第4代10納米級的DDR5 DRAM和LPDDR5 DRAM。而在這樣的制程下，將使12英寸晶圓的生產(chǎn)效率提升1倍。隨著2021年DDR5 DRAM和LPDDR5 DRAM市場的擴(kuò)展，三星也將進(jìn)一步加強(qiáng)了與IT客戶及半導(dǎo)體供應(yīng)商優(yōu)化標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格合作，加速整個存儲器芯片市場開始向DDR5和LPDDR等規(guī)格產(chǎn)品發(fā)展。

 
三星是全球首家在DRAM生產(chǎn)采用EUV技術(shù)的存儲器供應(yīng)商，用以克服DRAM芯片發(fā)展上的挑戰(zhàn)。由于EUV技術(shù)的采用，減少了多重影像制作中的重復(fù)步驟，因此進(jìn)一步提高了影像制作的準(zhǔn)確性，也增加了產(chǎn)品的性能與產(chǎn)量，也使得生產(chǎn)時間縮短。

 
為了滿足對新世代DRAM存儲芯片市場不斷成長的需求，三星也將在2020下半年開始在韓國平澤工業(yè)區(qū)內(nèi)建立第二條存儲器芯片產(chǎn)線。
 

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